연구자 정보
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- 출신대학 : KAIST
- 전공 : 반도체공학대학원
- 연구분야 : 반도체 소재(2D, III-V) 및 소자
1분 요약
반도체의 승부는 이제 선폭을 미세하게 줄이는 경쟁이 아니라, 그 미세한 패턴에서 생기는 결함을 얼마나 빨리 찾아내고 원자 단위로 복구하느냐에 달려 있다고 본다. 삼성전자가 High-NA EUV를 1조 원을 들여 추가 도입한 것도 단순히 해상도를 높이려는 시도가 아니라, ASML–Zeiss–KLA가 구축한 초정밀 계측·보정 생태계에 본격적으로 올라타겠다는 신호로 해석해야 한다. 중국이 EUV 장비의 외형을 복제해도 절대 따라올 수 없는 이유가 바로 이 생태계 격차다. High-NA 시대에는 노광 장비 자체도 중요하지만, e-beam 기반의 계측·보정 능력 역시 수율을 좌우하는 핵심 기술이 될 것이다.